Page 41 - 半导体视界
P. 41

06 技术纵横 — 技术深度    Technology Panorama —  Technical Depth  半导体视界     SEMICONDUCTOR HORIZONS  半导体视界     SEMICONDUCTOR HORIZONS  技术纵横 — 技术深度     Technology Panorama — Technical Depth  06





 前沿技术多点突破 原始创新厚积薄发         岳麓山工业创新中心段曦东团队破局二维半导体

 中国半导体研究与工艺跃迁全球视野




 文 /  田也 , 中国国际科技促进会半导体产业发展分会 , 宣传部主任

 Multiple Breakthroughs in Frontier Technologies, Original Innovations Ready to Emerge

 China’s Semiconductor Research and Process Leap: A Global Perspective




 By Tian Ye, Director of the Propaganda Department of the Development Of Semiconductor Industrial Branch of the   来源:岳麓山工业创新中心微信公众号
 China International Association for Promotion of Science and Technology

              1L-SnS2/2L-WSe2 vdWH 短沟道 FET 的超高 Ion 与超低 Ron 特性
 本期《技术纵横——技术深度》聚焦于 2025年夏季我国半导体与前沿科技领域涌现的一系列
 重大原始创新与关键技术突破,展现出从材料、器件到工艺的全面进展。  6 月 12 日, 国 际 权 威 期 刊《Science》 在 线 发 表 岳  1.49×1014  cm–2 的超高二维空穴浓度。高空穴浓度使
 岳麓山实验室段曦东团队于《Science》发表二维半导体超掺杂新策略,突破传统介电极限,  麓 山 工业 创 新 中心、 湖 南 大 学化 学 化 工 学院、 二 维 材料  p 型 2D 晶体 管展现 出优异 性能, 其最低 源漏 接触电 阻
 为高性能电子器件开辟全新路径;长春应化所开发双自由基分子材料,大幅提升钙钛矿电池效率  湖 南 省 重 点 实 验 室 段 曦 东 教 授 团 队 完 成 的、 具 有 普适 性  (RC) 低 至 0.041kΩ · μm, 最 高 开 态 电 流 密 度(Ion)
 与稳定性;平煤神马实现 8N8超高纯度碳化硅粉体量产,打破国际垄断。与此同时,深圳平台激  的栅极调控能带调制超掺杂策略的最新研究成果。  高达 2.30mA/μm。
 光剥离技术达到国际先进水平,显著降低 SiC器件成本;中山大学研制出高保真度量子纠缠光源,  段曦东教授团队使用单层二硫化锡(1L-SnS2)与  研究成果成功实现了 2DSCs 中超高的 n2D,超低
         双层二硒化钨(2L-WSe2)构建具有 III 型能带排列的                        RC 与 Ron 以及创纪录的高 Ion。这为调控二维半导体
 为光量子芯片奠定基础;华工科技联合中科大揭示紫外激光退火机理,推动化合物半导体工艺自
         范德华异质结构(vdWHs)。背栅偏置电压(Vgs)能                           中的载流子浓度提供了一种超越传统电介质限制的能带
 主化。
         够 对 层 间 电 荷 转 移 掺 杂 进 行 有 效 调 制, 实 现 了 超 过典 型         调制掺杂方法,为未来高性能 2D 电子器件的开发开辟了
 这些成果为构建自主可控技术体系和未来产业竞争力提供坚实支撑。
         介电击穿的最大静电掺杂极限的超掺杂,获得了高达                               新途径。





 Abstract        This  issue  of Technology  Panorama  ·   achieved mass production of 8N8 ultra-high-purity silicon
 Technology  in  Depth  focuses  on  a  series  of  major   carbide powder, breaking the international monopoly.
 original innovations and key technological breakthroughs   Meanwhile, Shenzhen-based laser lift-off technology   我国科学家实现新型半导体光伏研发突破
 emerging  in  China’s  semiconductor  and  frontier   reached  internationally  advanced  levels,  markedly
 technology sectors in the summer of 2025, showcasing   reducing the cost of SiC devices; Sun Yat-sen University
 comprehensive progress from materials and devices to   developed a high-fidelity quantum entangled photon
 processes.  source, laying the foundation for photonic quantum
 The team led by Duan Xidong at the Yuelushan   chips; Huagong Technology, in collaboration with the
 Laboratory published a new strategy for two-dimensional   University of Science and Technology of China, revealed
 semiconductor hyperdoping in Science, breaking the   the ultraviolet laser annealing mechanism, advancing the
 traditional dielectric limit and opening a new path for   independent development of compound semiconductor
 high-performance electronic devices. The Changchun   processes.
 Institute of Applied Chemistry developed double-radical   These  achievements  provide  solid  support  for
 molecular materials, significantly enhancing the efficiency   building a self-reliant technology system and enhancing
 and stability of perovskite solar cells. Pingmei Shenma   future industrial competitiveness.  来源:人民日报海外版 2025 年 07 月 03 日 第 09 版
                                                                 https://paper.people.com.cn/rmrbhwb/pc/content/202507/03/
                                                                             content_30084386.html


 40  Volume 1,lssue 1,2025                                                               Volume 1,lssue 1,2025       41
   36   37   38   39   40   41   42   43   44   45   46